Úvod do procesu fyzikálnej depozície z plynnej fázy (PVD).

Fyzikálne nanášanie z pár (PVD) je proces používaný v rôznych priemyselných odvetviach na výrobu vysokokvalitných funkčných povlakov s výnimočnými výkonnostnými charakteristikami. Proces zahŕňa nanesenie tenkej, rovnomernej vrstvy materiálu na povrch substrátu. To sa dosiahne fyzikálnym odparovaním materiálu, po ktorom nasleduje kondenzácia na substráte. V tomto článku budeme diskutovať o PVD a jeho výhodách a tiež sa bližšie pozrieme na súvisiaci produkt, tzvPVD závesné zariadenie.

čo je PVD?

PVD je vysoko všestranný proces, ktorý možno použiť na nanášanie rôznych materiálov, vrátane kovov, keramiky a polymérov, na substrát. Niektoré bežné aplikácie PVD zahŕňajú nanášanie povlakov odolných voči opotrebovaniu, dekoratívnych povlakov a povlakov s dobrou elektrickou vodivosťou.

Výhody PVD povlaku

PVD povlaky ponúkajú širokú škálu výhod, vrátane zvýšenej odolnosti proti opotrebeniu, zvýšenej trvanlivosti a zlepšenej odolnosti proti korózii. Môžu byť tiež použité na dosiahnutie rôznych povrchových úprav, od jasných a lesklých po matné a štruktúrované.

Úvod doPVD závesné zariadenie

PVD závesné zariadenie je produkt navrhnutý špeciálne na pomoc pri procese PVD. Používa sa na podporu a zavesenie substrátu vo vákuovej komore počas procesu poťahovania. Svietidlo je navrhnuté tak, aby vydržalo vysoké teploty a tlaky vo vákuovej komore a je vyrobené z materiálov, ktoré nereagujú s náterovým materiálom.

Záver

Na záver, proces PVD je vysoko efektívny spôsob nanášania vysokokvalitných funkčných povlakov na substrát. PVD povlaky ponúkajú širokú škálu výhod a možno ich použiť v rôznych aplikáciách. ThePVD závesné zariadenieje užitočným nástrojom na podporu a zavesenie substrátu počas procesu poťahovania. Vďaka silnému dizajnu a kompatibilite s náterovým materiálom je vynikajúcou voľbou pre použitie v procesoch PVD.